PVD die 99,5% Sputterende Doelstellingen van het Zuiverheidszirconium met een laag bedekken
2021-03-17 16:56:20
|
Het heldere Sputterende Doel van het Oppervlaktetantalium
2020-06-18 14:28:53
|
7.19g/cm3 corrosiebestendig Chromium Sputterend Doel
2021-12-21 10:46:54
|
Het Nikkel Sputterende Doelstellingen van ASTM B162
2021-03-04 16:08:30
|
Sputterende de Doelstellingen Zr702 van het hoge Zuiverheidszirconium Diameter 140mm/D60mm /57mm
2021-12-29 11:33:26
|
Het Tantalium Sputterende Doelstellingen van de hoge Zuiverheids Heldere Oppervlakte
2022-08-05 14:47:50
|
PVD die Hoge Zuiverheid 99,95% met een laag bedekken Chromium Sputterend Doel
2021-01-19 14:32:56
|
Opgepoetste Ronde van het Molybdeen de Schijf Gerolde Moly van ASTM B386
2022-08-12 16:35:06
|
Opgepoetst Mo1-Molybdeen om Basis Op hoge temperatuur van de Plaat de Vacuümoven
2022-08-12 16:33:28
|